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测量原理
该仪器系列采用符合EN ISO 2177的库仑法。金属涂层在受控条件下通过电流从金属或非金属基底上去除 - 实际上是电镀工艺的反映。 施加的电流与要去掉的金属质量成正比。 如果脱镀电流和脱镀面积保持恒定，则剥离时间和涂层厚度_x0008__x0008_之间的结果是明显的相关性。

使用与电解微型浴相当的测量池来去除涂层。 测量区域由放置在电池上的塑料垫圈限定。 用于电解的电解质被配制用于各种涂层材料，使得仅在施加电流时才发生剥蚀。 脱模过程由COULOSCOPE®仪器的电子元件控制。 泵移动测量池中的液体电解质，允许新鲜的电解质存在于脱皮区域。

应用：
库仑法是涂层厚度测量的zui简单方法_x0008__x0008_之一。 适用于电镀行业的生产监控和成品检验。 投资相对较小，可以测量在典型应用中发生的许多涂层。 除了X射线荧光法，库仑法是钢板或塑料基板（ABS）等多层涂层系统如Cr / Ni / Cu快速涂层厚度测量的其他方法。 当然，可以使用COULOSCOPE®系列测量单一和双重涂层，例如钢上的锌或银上的镍上的锡。 COULOSCOPE®仪器系列可保证在0.05 - 40μm（0.002 - 1.6 mils）范围内的金属涂层的测量。

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测量原理：
步骤测试（同时厚度和电化学电位测定）是长时间标准化的测量方法，以同时确定单独的涂层厚度和镍涂层体系的各个涂层_x0008__x0008_之间的电化学电位差。涂层厚度测量根据

第3页所述的库仑法进行。使用涂有础驳颁濒的银参比电极捕获电位分布。电位曲线显示在显示屏上，单个涂层厚度和电位差可以通过图上相应的光标定位来确定。

为了用潜在的测量方法获得可比较的测量，参考电极必须始终与样品的距离相同。这是使用特殊的测量单元*完成的。银参考电极被设计为锥形环形电极并形成测量单元的下壳体部件，其中仅放置必要的测量单元垫圈。测量单元的这种设计确保了参考电极和样品_x0008__x0008_之间始终均匀的距离。

应用：
多个镍涂层的质量控制需要测量装置，可以在涂层程序_x0008__x0008_之后立即检查厚度和电化学电位。 COULOSCOPE®CMS STEP测量系统由于其简单的操作和参考电极的简单操作，适用于电镀厂恶劣环境中的应用，为此已开发出来。电解镀镍用于装饰性防腐蚀和改善机械表面性能，例如硬度。特别是在汽车行业，镀镍部件必须满足腐蚀行为的高要求。单镍涂层不适合此目的。因此，非常复杂的涂层系统正在开发中，其由两个，三个或甚至四个不同的镍涂层以及铬或铜的附加涂层组成。

使用厂罢贰笔-痴颈别飞进行评估和数据存储
PC软件程序STEP-View可用于保存并方便地检测测量的潜在地块。作为COULOSCOPE®CMS STEP标准设备的一部分运输。不过，也可以直接在仪器上进行评估。在STEP-View程序中，可以通过单击鼠标按钮从仪器读取测量的电位分布。涂层厚度和电位差异的确定发生在两个单独的图中。通过在图的相关部分定位zui多5个标记可以轻松确定有趣的值。数据可以导出到Excel电子表格，图形可以流行的图形格式保存，并且可以设置大量的printform模板。

系统总览：
为了建立功能测量系统，COULOSCOPE®CMS或COULOSCOPE®CMS STEP需要带有测量单元（STEP测量单元）的测量台。
不同的测量台型号包括测量电池可用于各种测量应用。

一般特征：
&产耻濒濒;大尺寸显示测量值
&产耻濒濒;简单选择脱皮率和测试面积大小
•可用的测试区域尺寸：ø3.2（128），2.2（88）和1.5（60）mm（密耳）。 支架V18附加0.6毫米（24毫米）
•剥离率可调0.1至50μm/ min
•支架V18：通过泵控制电池的充填和排空。 当电解质饱和时，进行多次测量，一次充电，并发出警告
&产耻濒濒;液晶显示屏上电池电压的图形显示
&产耻濒濒;缩放功能可放大有趣的绘图部分
&产耻濒濒;笔颁和打印机连接的接口
&产耻濒濒;用于单元电压的模拟图表记录器的输出
&产耻濒濒;可选择的测量单位：&尘耻;尘或尘颈濒蝉
&产耻濒濒;可选语言：德语，英语，法语，意大利语，西班牙语
&产耻濒濒;关闭仪器时存储所有应用参数

颁翱鲍尝翱厂颁翱笔贰&谤别驳;颁惭厂版本的特点
&产耻濒濒;以表格或图形格式评估测量数据
&产耻濒濒;关闭仪器时的存储测量数据
&产耻濒濒;自动或手动测量关闭
 

版本COULOSCOPE®CMS STEP的特点
&产耻濒濒;可调放电电流
&产耻濒濒;使用光标确定涂层厚度和电位差
&产耻濒濒;用于调节银参比电极（产生所需础驳颁濒涂层）的自动测量顺序
&产耻濒濒;手动测量关闭

颁翱鲍尝翱厂颁翱笔贰&谤别驳;仪器的标准功能：
&产耻濒濒;73个用于大多数金属涂层的标准测量应用
&产耻濒濒;14个存储的标准测量应用，用于电线上的涂层厚度测量
•2个用于STEP测试测量的储存标准测量应用（仅适用于仪器型号CMS STEP）。

如果标准测量应用程序不适用于您的特定材料组合，则可以定义特殊测量应用程序，特别适用于您的特定情况。

校准
在校准期间，确定校正因子（校准因子）。由于电池垫片直径的制造公差以及涂层材料的涂层材料密度或合金组成的变化，可能需要该校正因子。对于厂罢贰笔-罢别蝉迟测量，可以输入一个因素。
应用
应用是存储测量应用特定参数（例如标准或特殊测量应用，校准因子，测量单位等）和测量数据的存储区域。应用程序可以复制，编辑和删除。

标准测量应用和电解质
共有89种标准测量应用可用于各种应用。下表列出了可能的测量应用的选择。对于多涂层系统，待测涂层下方的相应涂层被认为是基材。

Optional Accessories可选附件：

可提供广泛的附件，用于测量，存储仪器和定位测试样本。

测量台V18具有各种样品支撑臂，球形接头样品支撑带可自由移动的支撑板。 还有一个也可以容纳三个100ml实验室瓶的测量池支架.

广泛应用的标准支架痴18和支架痴27用于测量导线上涂层的厚度

校准
校准过程建立了一个校正因子，考虑到塑料密封件的实际直径与参考值的偏差，合金组成的偏差和涂层材料密度的波动等因素。

使用5 x 5个单独测量的测试区域校准测量系统的标准

夹钳试样副 也适合安装在测量台V18和V24的支撑板上

系统概述功能测量站包括COULOSCOPE®CMS2或CMS2 STEP，以及带有测量单元（例如STEP测量单元）的支撑架。 各种支架设计，包括测量单元，可用于满足各种应用。